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光刻胶基础知识（精品pdf）

光刻胶基础知识简介2012年04月19日大纲 什么是光刻胶 光刻胶的分类与发展 光刻胶的基本组成及其作用原理 光刻胶的发展前景光刻胶（photoresist/resist） 定义：又称光致抗蚀剂，是一种感光材料，在光的照射与溶解度发生变化。 作用：实现从掩膜板到基片上的图形转移。 用途：分立器件、集电电路（IC）、平板显示（FPD，LCD、PDP）、LED等。 重要性：– 集成电路制造的关键原材料– 国内芯片制造业的迅速发展– 本土化需求Moore’s Law 摩尔定律（Moore’s Law）– 当价格价格价格价格不变时，集成电路上可容纳的晶体管数目隔18个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。晶...
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【精品】光刻胶基础知识

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光刻胶基础知识

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光刻胶基础知识

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光刻胶基础知识入门及各类光刻胶技术参数

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[精品]光刻胶知识大全

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[精品]光刻胶知识简介

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光刻胶知识简介

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