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先进光刻胶材料的研究进展

先进光刻胶材料的研究进展 ９卷 第６期 第２ ０１１年１１月２影像科学与光化学ＩｍａｉｎＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＰｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒＶｏｌ．２９ Ｎｏ．６ ，Ｎｏｖ．２０１１檭檭殐檭檭檭檭檭殐 １ 光刻技术概况 光刻技术是利用光照，在有光刻胶存在下，将掩膜上的图形转移到衬底上的过程，其 ２］；首先在衬底表面形成一层光刻胶薄膜（然后紫外光通基本原理如图１所示［．Ａ过程）檭檭檭檭檭殐 到衬底上．综 述许箭，陈力，田凯军，胡睿，李沙瑜，王双青，杨国强（）北京分子科学国家实验室，中国科学院化学研究所光化学重点实验室，北京１００１９０摘 要：本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程，并对应用于１９３纳米光刻和下一代Ｅ特别对文献中ＥＵＶ光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述，ＵＶ光刻胶材料的研发进行了...
上传时间：2017-06-28 页数：33 格式：DOCX 浏览： 27

光刻胶的研究进展dyy

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上传时间：2017-07-29 页数：12 格式：DOCX 浏览： 17

光刻胶材料的研究进展（精品pdf）

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上传时间：2015-08-01 页数：10 格式：PDF 浏览： 15

分子玻璃光刻胶的研究进展

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上传时间：2024-11-11 页数：40 格式：DOCX 浏览： 14

分子玻璃光刻胶研究进展

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化学增幅型光刻胶材料研究进展.docx

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先进光刻胶材料的研究进展（精品）

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上传时间：2015-09-07 页数：13 格式：PDF 浏览： 21

光敏聚酰亚胺光刻胶研究进展.docx

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化学放大光刻胶高分子材料研究进展

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上传时间：2018-10-28 页数：11 格式：DOCX 浏览： 22

化学放大光刻胶高分子材料研究进展

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